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產(chǎn)品展示/ Product display

您的位置:首頁  /  產(chǎn)品展示  /  電子儀表  /  機(jī)器設(shè)備  /  TEP-01x/TEP-Xd日本tateyama等離子微細(xì)加工設(shè)備刻蝕裝置

日本tateyama等離子微細(xì)加工設(shè)備刻蝕裝置

日本tateyama等離子微細(xì)加工設(shè)備刻蝕裝置
TEP-01x 是一款獨(dú)特的等離子刻蝕裝置,專門針對硅以外的“非“半導(dǎo)體材料(如亞克力等塑料材料、SiO?(石英·水晶)和LiNbO?(鈮酸鋰)等壓電材料、鈦等難加工性材料)進(jìn)行高平滑面·高深寬比的微細(xì)加工。

  • 產(chǎn)品型號:TEP-01x/TEP-Xd
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2026-02-02
  • 訪  問  量:76
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詳細(xì)介紹

日本tateyama等離子微細(xì)加工設(shè)備刻蝕裝置

日本tateyama等離子微細(xì)加工設(shè)備刻蝕裝置

等離子微細(xì)加工(等離子刻蝕)裝置 TEP-01x/Xd

面向研發(fā)的標(biāo)準(zhǔn)型 Deep-RIE 裝置專門用于各種"非"半導(dǎo)體材料(硅以外的材料)的微細(xì)加工
可根據(jù)客戶需求和預(yù)算進(jìn)行定制
從器件研發(fā)·試制加工到小規(guī)模生產(chǎn)均可對應(yīng)

三大核心優(yōu)勢

優(yōu)勢說明
"非"半導(dǎo)體材料刻蝕專業(yè)化針對各種塑料、壓電材料、難加工性材料優(yōu)化
高刻蝕速率實(shí)現(xiàn)高平滑面加工
安全·安心不使用氯系氣體

概略

TEP-01x 是一款獨(dú)特的等離子刻蝕裝置,專門針對硅以外的"非"半導(dǎo)體材料(如亞克力等塑料材料、SiO?(石英·水晶)和LiNbO?(鈮酸鋰)等壓電材料、鈦等難加工性材料)進(jìn)行高平滑面·高深寬比的微細(xì)加工。
以低廉價格對應(yīng)以往刻蝕加工困難的各種基板材料!除塑料制微流控芯片加工外,還適用于塑料材料、壓電材料、難加工性材料的高深寬比微細(xì)加工等各種MEMS器件的試制。

特長

  • 高速排氣:采用相對于真空腔容積的大容量排氣泵,可實(shí)現(xiàn)刻蝕反應(yīng)生成物的高速排出
  • 高密度等離子:通過磁場輔助電容耦合等離子體,可在低壓區(qū)域(<0.1Pa)生成高密度等離子體
  • 高刻蝕速率+高平滑面:同時實(shí)現(xiàn)高效率加工和優(yōu)質(zhì)表面質(zhì)量
  • 環(huán)保安全:不使用氯系氣體
  • 材料適應(yīng)性廣:可加工多種塑料材料、壓電材料、難加工性材料

用途

  • 各種塑料基板、壓電材料基板上的微細(xì)結(jié)構(gòu)加工、器件試制
  • 光學(xué)元件·水晶振蕩器·SAW器件加工等
  • 微流路芯片·微TAS器件制作
  • 高深寬比柱狀結(jié)構(gòu)等難加工材料的加工
  • 基板的灰化(ashing)或表面改性等

對應(yīng)材料

材料類別具體材料
各種塑料材料亞克力、聚碳酸酯、環(huán)烯烴樹脂、氟系樹脂等
壓電材料SiO?(石英)、LiNbO?(鈮酸鋰)等
難加工性材料Ti(鈦)等

刻蝕加工示例

亞克力材料加工
  • 可實(shí)現(xiàn)高深寬比的微細(xì)柱狀結(jié)構(gòu)加工
  • 刻蝕面平滑,側(cè)壁垂直性好




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