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產(chǎn)品分類產(chǎn)品展示/ Product display





itoh-mill電子材料研磨分散低污染氧化鋁球氧化鋁純度≥99.99%,除氧化鋁外其他成分實質(zhì)為 0,無放射性同位元素混入,適配對雜質(zhì)敏感的場景;耐磨損性優(yōu)異,針對高硬度被粉碎物,耐磨表現(xiàn)優(yōu)于鋯石珠;
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廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
更新時間:2026-03-10
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itoh-mill電子材料研磨分散低污染氧化鋁球
itoh-mill電子材料研磨分散低污染氧化鋁球
氧化鋁純度≥99.99%,除氧化鋁外其他成分實質(zhì)為 0,無放射性同位元素混入,適配對雜質(zhì)敏感的場景;
耐磨損性優(yōu)異,針對高硬度被粉碎物,耐磨表現(xiàn)優(yōu)于鋯石珠;
耐酸耐堿,無鋯石珠在溫水中出現(xiàn)的性能劣化問題;
密度僅為鋯石的 2/3(3.9g/cm3),充填重量可減少至 2/3,能節(jié)省粉碎 / 分散過程的能耗(電力);
充填密度 2.4g/cm3,雜質(zhì)含量為 ppm 級(Na8ppm、K4ppm、Si8ppm、Fe10ppm、Ca2ppm、Cr3ppm、Mg3ppm)。
氧化鋁純度≥99.9%,粉碎過程中幾乎無氧化鋁外的雜質(zhì)混入,防污染效果佳;
耐磨損性突出,適配對純度有要求的工業(yè)物料研磨。
氧化鋁純度 99.5%,兼顧耐磨損性與耐沖擊性;
可將粉碎過程中的物料污染控制在最小限度;
高密度且形狀接近真球,能有效提升粉碎效率。
氧化鋁含量 93%、二氧化硅 5%,性價比高,為通用款研磨介質(zhì);
真密度 3.6g/cm3,HV 硬度 17.2GPa,滿足常規(guī)粉碎的耐磨要求;
適配性廣,是超硬材料以外普通物料粉碎的優(yōu)選。
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