日本itoh-mill高粘度濕式研磨分散氧化鋯球

日本itoh-mill高粘度濕式研磨分散氧化鋯球
氧化鋯球核心為95% 氧化鋯材質(zhì)（ZrO?-95%），是兼顧高韌性、耐磨損與低污染的研磨介質(zhì)。其性能適配高粘度濕式分散、磁性材料加工等對(duì)雜質(zhì)控制嚴(yán)格的場(chǎng)景

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更新時(shí)間：2026-03-10
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日本itoh-mill高粘度濕式研磨分散氧化鋯球

該品牌氧化鋯球核心為95% 氧化鋯材質(zhì)（ZrO?-95%），是兼顧高韌性、耐磨損與低污染的研磨介質(zhì)。其性能適配高粘度濕式分散、磁性材料加工等對(duì)雜質(zhì)控制嚴(yán)格的場(chǎng)景，規(guī)格覆蓋從超微細(xì)化到大型研磨的全尺寸需求，是工業(yè)精密研磨與科研實(shí)驗(yàn)的核心耗材。

一、核心材質(zhì)與性能特點(diǎn)

高純度防污染：氧化鋯含量達(dá) 95%，不含二氧化硅、氧化鋁等易污染成分，適配忌 SiO?/Al?O?污染的物料加工；
強(qiáng)韌性耐磨損：韌性遠(yuǎn)超陶瓷類研磨介質(zhì)，長(zhǎng)期使用損耗低，能有效減少研磨過(guò)程中的介質(zhì)碎屑污染；
適配高粘度工況：表面光滑度高，與物料的粘附性低，專為高粘度濕式分散場(chǎng)景設(shè)計(jì)，研磨效率優(yōu)于同類介質(zhì)；
尺寸精度高：真球度誤差極小，研磨過(guò)程中受力均勻，保障物料粒度分布的一致性。

二、全規(guī)格尺寸體系

覆蓋超微細(xì)化到大型工業(yè)研磨的全尺寸需求，是品牌規(guī)格最完整的系列之一：

尺寸分類	具體規(guī)格	核心適配場(chǎng)景
超微珠（超細(xì)粉碎用）	φ0.03mm、φ0.05mm、φ0.1mm	納米級(jí)物料超微粉碎、涂料 / 顏料濕式分散
微珠（精密研磨用）	φ0.2mm、φ0.3mm、φ0.5mm、φ1mm	電子漿料、磁性材料、壓電體的精細(xì)化研磨
常規(guī)球（工業(yè)通用）	φ2mm、φ3mm、φ5mm、φ10mm、φ15mm	化工原料、生物材料的批量研磨與分散
大粒徑球（重型研磨）	φ20mm、φ30mm、φ40mm、φ50mm	大型球磨機(jī)、高硬度物料的粗碎與細(xì)化

三、特殊規(guī)格配件（樽型ロッド）

除球形介質(zhì)外，還提供氧化鋯材質(zhì)的樽型研磨棒，補(bǔ)充特殊設(shè)備的研磨需求：

規(guī)格：φ10mm×H10mm、φ12.7mm×H12.7mm
優(yōu)勢(shì)：相比球形介質(zhì)，接觸面積更大，研磨效率更高
適配：特殊結(jié)構(gòu)球磨機(jī)、針對(duì)性物料的集中研磨場(chǎng)景

四、核心適配場(chǎng)景

電子與磁性材料：鋰電池正極材料、鐵氧體、壓電陶瓷的研磨，杜絕雜質(zhì)影響材料性能；
涂料與顏料：汽車漆、納米顏料的濕式分散，保障涂層的均勻度與附著力；
生物與醫(yī)藥材料：藥用輔料、生物活性物料的研磨，防污染且無(wú)介質(zhì)成分溶出；
精細(xì)化工：高粘度膠粘劑、樹(shù)脂的分散，適配濕式研磨的核心工藝需求。

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日本itoh-mill高粘度濕式研磨分散氧化鋯球

一、核心材質(zhì)與性能特點(diǎn)

二、全規(guī)格尺寸體系

三、特殊規(guī)格配件（樽型ロッド）

四、核心適配場(chǎng)景

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三、特殊規(guī)格配件（樽型ロッド）

四、核心適配場(chǎng)景